導體，顯像管，液晶顯示器，線路板等用的純水，對水的純度要求較高，對出水電阻率的要求達到上（MΩ.cm）級。

        隨著電子工業的發展對高純水提出了越來越高的要求。例如，制作16K位DRAM允許水中TOC（總有機碳）為500ppb、金屬離子為1ppb、≥0.2μm的顆粒為100個/毫升；而制作16M位DRAM時，則要求TOC＜5ppb、金屬離子＜0.2ppb、水中≥0.1μm顆粒數為0.6個/升。

        可以說在電子級超純水制備系統中匯集了當前水處理技術最先進的工藝和設備,如超濾、微濾、反滲透、膜脫氣、電去離子(EDI)等,其中反滲透裝置是整個純水、超純水制備系統工程中一關鍵的設備.它能有效地去除原水中97%以上的溶解性無機物質、99%以上的相對分子質量大于300的有機物、99%以上的包括細菌在內的各種微粒和95%以上的二氯化硅.

        反滲透工藝在純水、超純水制備系統工程中的應用,不但能提高了產水品質,降低生產成本,而且防止環境污染,有力地推進了電子工業的進步,同時也促進了純水、超純水制造技術的發展.

        在我國RO應用于電子工業水處理的報道，最早可追溯到1981年，RO技術就己成功應用于大規模集成電路超純水制備。此后，不斷出現RO制取超純水工藝流程研究和更大規模超純水制備的報道。2004年4月，國家海洋局杭州水處理技術開發中心為樂金飛利浦曙光電子有限公司設計和建成的13Om3/hRO彩色顯象管廢水回收項目是RO純水制備技術在電子工業領域應用的拓展。該項目是迄今我國第一個較大規模進行彩色顯象管生產企業廢水回用項目。

        通過國家“七五”、“八五”科技攻關項目的實施我國超純水制備系統工程設計和成套能力有了很大的提高,掌握了整套工程的系統工藝設計、設備制造和成套、安裝調試、技術培訓等關鍵技術,工程應用技術已達到了國際水平。